Đặc điểm chung của máy mạ bạc chân không và máy phủ magnetron

Đặc điểm chung của máy mạ bạc chân không và máy phủ magnetron

Quá trình phún xạ magnetron của máy phủ magnetron có nhiều nguyên lý làm việc và đối tượng ứng dụng khác nhau. Nhưng chúng đều có một điểm chung: Sự tương tác giữa từ trường và điện trường làm cho các electron chuyển động xoắn ốc quanh bề mặt mục tiêu, làm tăng khả năng các electron chạm vào argon để tạo ra các ion. Các ion được tạo ra va chạm với bề mặt của mục tiêu dưới tác dụng của điện trường, từ đó làm mục tiêu bắn tung tóe.

Nguồn mục tiêu của máy phủ magnetron có thể được chia thành loại cân bằng và loại không cân bằng. Lớp phủ nguồn mục tiêu cân bằng là đồng nhất và lớp phủ nguồn mục tiêu không cân bằng có độ bám dính mạnh với chất nền. Nguồn mục tiêu cân bằng chủ yếu được sử dụng cho màng quang bán dẫn và nguồn mục tiêu không cân bằng chủ yếu được sử dụng để dán màng trang trí. Các cực âm magnetron có thể được chia thành các cực âm magnetron cân bằng và không cân bằng theo các cấu hình từ trường khác nhau. Từ thông của thép từ tính bên trong và bên ngoài cực âm của máy phát cao tần cân bằng gần bằng nhau và các đường sức từ hai cực được đóng trên bề mặt mục tiêu, có thể hạn chế các electron/plasma gần bề mặt mục tiêu, tăng xác suất va chạm và nâng cao hiệu quả ion hóa.

Mạ bạc chân không Mỗi hệ thống có thể thực hiện một chức năng khác nhau

Một máy phủ chân không phún xạ magnetron hoàn chỉnh bao gồm nhiều bộ phận, mỗi hệ thống có thể hoàn thành các chức năng khác nhau và cuối cùng đạt được lớp phủ chất lượng cao cuối cùng. Thiết bị phủ phún xạ magnetron bao gồm buồng chân không, van và hệ thống thu nhận chân không. , hệ thống đo chân không, mục tiêu cực âm, hệ thống điều khiển điện và các bộ phận khác.

Thân chính của máy phủ phún xạ magnetron là buồng chân không, kích thước của buồng chân không được xác định bởi kích thước của chất nền sản phẩm và công suất của người dùng. Khoang được làm bằng thép không gỉ SUS304, ưu điểm là không dễ rỉ sét, bền hơn thép cacbon và dễ bảo trì. Có nhiều loại phương pháp phủ phún xạ magnetron, mạ ion đa hồ quang thường được sử dụng, lớp phủ điều khiển tần số trung gian, v.v. Lớp phủ được hình thành bằng phương pháp phún xạ magnetron có độ bám dính mạnh, độ tinh khiết cao của màng và có thể được phún xạ cùng một lúc. thời gian. nguyên liệu thành phần.

www.superbheater.com